半導體行業在生產的過程中，會產生大量的有機物以及有毒有害物質，特別是VOCs氣體，如直接排放VOCs氣體，對大氣層將會造成較為嚴重的危害，所以今天小編將與大家分享一份關于：半導體行業的廢氣處理方案。
目前在市場上，工業廢氣處理主要采用的是焚燒或者是吸附的方法，還有一種少見的熱氧化法，但是由于半導體廢氣中的有機物會被氧化掉，所以只有在大流量、低濃度的氣體的情況下使用該方法。
吸附法：
活性炭吸附法是利用活性炭表面上的多孔，去吸附有機廢氣中的有害物質或者是可回收物質，其吸附劑選擇性高，而且凈化效率高，活性炭再吸附后需作再生處理。
優勢：活性炭吸附設備結構簡單，可實現自動化操作，采用活性炭作為吸附劑，其運行成本低，而且對于廢氣中水蒸氣的靈敏度不高。
焚燒法：
焚燒法的工作原理是將廢氣中的有機物經過熱氧化轉化為二氧化碳和水，一般處理的是濃度和風量較為穩定的廢氣。
有機廢氣處理方法一般會使用直接燃燒法、催化燃燒法、活性炭吸附法、冷凝法等，很多時候會采用燃燒法和吸附法相結合。
對于半導體行業的廢氣這種大風量、廢氣成分復雜而且濃度低的有機廢氣處理比較適合燃燒法和吸附法相結合的方法。
